美國Rensselaer理工學院(Rensselaer Polytechnic Institute)中由Schubert領導的研究小組創造出一種幾乎不反光的特殊材料，在《自然光子學》(Nature Photonics)雜誌3月號裡發表了該項研究成果，並刊登了小組研究成員包括Shawn-YuLin、Jong Kyu Kim教授，以及研究生Q.Xi,Martin F.Schubert和Minfeng chen的資料和文章。

一般而言，折射率是應用於太陽能與LED材料的基本光學性質，並決定了光的衍射、折射及在物質中的傳播速度等光學性質。研究小組使用一種被稱為斜腳沉澱（oblique angle deposition）的技術，將矽納米棒以45度傾角沉澱在AIN薄膜上，如此能產生光學增透膜（anti-reflection coatin）。此一技術能夠讓新增的透膜，很大成度地減少甚至消除了不同波長的光以任何角度與入射時的反射，還能夠不要求光源一定得與增透膜呈現垂直角度，同時反射率下降的程度創下了世界紀錄。換言之，利用該材料製成的光學薄膜，對光基本特性的控制能力已經呈現了巨大的提升。

目前Schubert及其同事已產製出數個樣品以證明新材料的可行性，在此同時，斜角沉澱技術已經在業內廣泛應用中，且設計不僅局限於AlN襯底。業界人士相信，這一研究成果可能催生出亮度更亮的LED、發電效率更佳的太陽能電池，以及適應環境的新型智慧光源，幫助人類適應變換的工作時間，也可實現汽車與後方車輛汽車間為外人所察覺不到的通訊，增進行車安全。

來源：Nature Photonics

撰稿：jane