LEDforum 2015 於2015年10月23日於台大國際會議中心舉辦，下午場次則以目前市場相當重視的利基市場作為主軸，包含紫外線、紅外線、車用市場應用的機會與挑戰。

研晶光電董事長 魏志宏博士指出，產品應用於光固化市場相當的大，包含機器用、快速印刷、塗佈、貼合、PCB與LCD曝光機、及3D列印。

研晶光電董事長 魏志宏博士於LEDforum 2015分享光固化市場應用技術。

光固化市場應用技術要求如下:

1.       波長要求: 高功率LED封裝，需混合不同波長的UV-A LED (365nm / 385nm / 395nm / 405nm / 430nm)，面光源模組設計以達到均勻光。若一個LED光源不亮，將導致固化效果失敗，這也是光源模組產品面臨到最大的挑戰之一。若需減少客製化大尺寸光源模組，可採用好幾片小片的單片光源模組拼接，無縫隙拼接則為是相當主要技術。

2.       光學設計: 依產品對於均勻性或是照射工作距離要求，發光角度小於60°。

3.       光強度: 取決於工作距離 (1mm-150mm)，採用輻射照度 (W/cm2)計算，介於 4W-20W/cm2。

4.       光均勻性: 至少須達85%以上的均勻性。

5.       冷卻系統: 依設備環境需求，採用水冷式或是氣冷式。從冷卻系統成本來看，LED 氣冷式冷卻系統較LED 水冷式冷卻系統來的低，然而易積灰塵、噪音；水冷式冷卻系統雖然可使用瓦數較高，但不可應用在無塵室之中。

UV LED應用於曝光機一直有相當的難度，主要因為 UV LED的光學設計不容易達到平行光。汞燈光線有辦法透過玻璃管繞行，轉為平行光，LED光線繞行就會持續減少亮度，造成不必要的損失。

1.       光學設計: 依產品對於均勻性或是平行光 (collimated light) 的要求，發光角度介於1°- 6°。

2.       光強度: 取決於工作距離 (50mm-150mm)，採用輻射照度 (W/cm2)計算，介於100mW-1W/cm2。

3.       光均勻性: 至少須達85%以上的均勻性。

研晶推出的 UV LED光學設計，利用特殊二次光學設計，目前也可達到小於2度的平行光，更具均勻性的光學設計，相當適合應用於曝光機。

以上種種光固化市場技術要求，都需要來回與客戶緊密討論，就算是同一種機台，也需要視客戶環境而調整，是高度客製化的市場。