LED 大廠日亞化學（Nichia Corp.）與億光電子，近日輪番發出多件專利訴訟聲明互控侵權。億光 16 日發聲明，提到一年多前與日亞在中國的覆晶專利訴訟案，已由中國專利複審委員會確認億光專利有效，並駁回日亞專利無效請求。日亞今（18）日回應表示，將對該決定提出行政訴訟。

億光中國子公司於 2017 年 9 月 28 日，向中國深圳中級人民法院提出專利侵權訴訟，控告深圳日亞化學及其經銷商恒炘源，侵害億光覆晶（flip chip）專利技術，要求法院針對侵權產品下達禁制令並賠償損害。億光指出，中國專利複審委員會已確認該專利有效，駁回日亞的專利無效請求。

據日亞聲明指出，該中國專利 CN 101400197 B 為「具覆晶結構的發光二極管裝置」，針對中國專利複審委員會維持億光該中國專利有效性的決定，日亞將提起行政訴訟以捍衛權利。

日亞另提到該中國專利的台灣對應案，不僅已由台灣經濟部認定億光專利無效，且億光曾於 2017 年 12 月 5 日向台灣智財法院所提起的行政訴訟，也於 2018 年 8 月 28 日自行撤回起訴。日亞以該台灣對應專利確定撤銷一事，認為前述的億光中國專利亦應無效。不過，台灣與中國兩地審理情況有別，結果能否如日亞預期仍有變數。

日亞與億光之間，在台灣、日本、美國、德國、中國等多個地區都有專利侵權訴訟，雙方針對新舊案件纏訟多時，不但未見停歇還愈演愈烈，專利之爭恐難休止。

(新聞來源：TechNews)