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Micro LED被視為取代TFT-LCD及OLED display的次世代顯示器技術。建立在LED高效能的基礎上，理想的Micro LED顯示器具有高畫素、高對比、自發光、低能耗及壽命長等各種優勢，備受看好。
然而，當前的Micro LED仍面臨許多困難需要克服，其中最困擾研究人員與製造商的便是所謂的巨量轉移製程(Mass transfer process)，如何將紅、藍、綠三種顏色的LED晶片快速且精確地接合至面板的驅動電路上，以及克服晶片材料特性不同的挑戰，特別是紅光Micro-LED還有易碎等問題，因此巨量轉移技術至今仍沒有能達到量產的解決方案被提出。
台灣交通大學的郭浩中教授等人，與美國新創公司Saphlux、耶魯大學、廈門大學的研究人員合作，採用半極化(Semipolar)的Micro LED結合量子點螢光粉光阻(Quantum dot photoresist)的技術，製作出高色穩定的全彩Micro LED陣列，相關研究成果已被Photonics Research期刊接受，並即將發表。
研究團隊主持人郭浩中表示，為了減少巨量轉移的次數，該團隊長期專注在量子點螢光粉色轉換技術的應用，只需要一種顏色的LED晶片(藍光或近紫外光)搭配不同顏色的量子點螢光粉，即可實現全彩的功能，且量子點螢光粉的演色性相當突出。
郭浩中也提到，除了巨量轉移製程的挑戰，LED晶片本身也面臨不少問題。譬如藍綠光LED晶片會隨著操作電流改變，產生發光顏色變化的現象，意味著顯示器為了配合環境光源改變亮度時，就有可能產生顏色變化，不利於顯示器的使用，因此必須解決LED晶片色偏移的問題。該團隊採用半極化磊晶技術製作LED晶片，藉由半極化材料的特性，大幅減少LED光源本身的發光波長偏移(Wavelength-shift)現象，進而克服色偏移的問題；在這個研究中的第二個突破就是採用量子點螢光粉光阻技術，該技術透過特殊的方法，將量子點螢光粉與光阻液混合，搭配傳統的微影製程，達到大面積製作彩色像素需求，取代分別轉移紅、藍、綠的LED晶片的方法，大幅降低轉移製程的困難度。
(圖片來源: Chen et al. 2020)
最後，結合上述兩種技術，成功實現了高色穩定的全彩Micro LED陣列，同時具有大面積製造的可能性，為Micro LED顯示器技術的發展注入一股新血。
