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昨日（7/14），芬蘭原子層沈積（Atomic Layer Deposition，ALD）設備供應商Beneq公司宣布其Micro LED原子層沈積設備獲得頭部客戶的追加訂單。
圖片來源：Beneq
據了解，原子層沈積技術在材料精度控制與表面鈍化等方面扮演者重要角色，可實現原子級精度的超薄一致性塗層，可有效應對Micro LED生產中的關鍵難點，例如表面缺陷鈍化、側壁保護、透明導電氧化物沈積以及最終鈍化工藝，從而提升器件效率與長期可靠性。
Beneq公司的多腔室架構支持多種材料與工藝，可幫助客戶優化光學與電氣性能，實現從實驗室到量產的無縫轉化。據介紹，客戶主要采用其Micro LED設備，實現Micro LED與驅動電子器件在單芯上的單片集成，由此可見，終端應用場景可能為AR等可穿戴設備。
另值得一提的是，Beneq公司在2018年被思銳智能全資收購，後者將其打造為海外研發中心，通過整合Beneq超過30年成熟應用的ALD鍍膜技術與國內產業化優勢，聚焦新興半導體、泛半導體和納米光學等工業鍍膜應用領域。
思銳智能主要面向“半導體裝備”和“新型顯示”等關鍵核心技術，提供原子層沈積鍍膜（ALD）設備、薄膜電致發光顯示屏（EL）兩大板塊。該公司持續推進EL透明顯示技術的研發與應用，聚焦汽車、軌道交通、工程機械、國防等各類嚴苛工業應用領域，為全球客戶提供高可靠、超寬溫和高透光率的顯示解決方案。（LEDinside編譯、整理）
TrendForce 2025 Micro LED 顯示與非顯示應用市場分析
出刊日期: 2025年5月29日/ 11月 30 日
語系: 中文 / 英文
格式: PDF
頁數:87
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