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LED與半導體設備廠商美商Veeco表示，將於2010年10月14日~10月16日在中國深圳的第七屆中國國際半導體照明展(China SSL) 展示新品。
Veeco的攤位號碼，HALL 9, Booth No. 507-509
Veeco推出TurboDisc® K465i™ ，一款用於生產高亮度LED（HB LED）的氮化鎵(GaN) 金屬有機化學氣相沉澱(MOCVD)設備，日前經過LED產業內的Veeco 用戶試用後， K465i 很快獲得量產認可，該公司已經接到了亞太區域多個LED 使用者的訂單。
Veeco指出，這次的新產品TurboDisc K465i 以Veeco 久經考驗的K 家族平臺為基礎，結合業界最高生產效率，在5nm bin誤差範圍內，同級最優LED的良品率接近90% ，大幅提高中bin率。 TurboDisc K465i 採用完全自動化運作，例行維護後在很短的時間內即可繼續生產動作，增加生產效率。在同類產品競爭中，不僅生產效率最高，還能節約大量成本。
TurboDisc K465i 設計：均勻性和可重複性
TurboDisc K465i GaN MOCVD 系統裝置的核心，是Veeco正在申請專利的Uniform FlowFlange 技術。它的設計是用來產生能均勻地流過LED晶圓的烷基和氫化物氣體的均勻氣流型態，該設備打造出來的LED晶粒可獲得卓越的均勻性和可重複性，K465 i也採用了Veeco 最先進的反應爐技術。 FlowFlange 的簡化設計提供了快速制程優化的輕鬆除錯功能，適用晶圓大小達8 英吋，同時該設備維護後的快速複產能力也保證了LED產業界最高的生產效率。
