近日，中國科大姚宏斌教授課題組聯合張群教授、林岳教授和張國楨副研究員研究團隊提出金屬鹵化物鈣鈦礦亞穩相結晶策略，有效消除了混合鹵素鈣鈦礦CsPbI3-xBrx晶片內部的面缺陷，從而製備了高效的純紅光鈣鈦礦發光二極管，其外量子效率達17.8%，亮度為9000cd m-2。

研究成果以題為「Planar defect-free pure red perovskite light-emittingdiodes via metastable phase crystallization」發表在國際期刊Science Advances上（Sci. Adv. 2022,8, eabq2321）。

金屬鹵化物鈣鈦礦材料由於其高色純度、寬色域、低成本以及可溶液加工等優勢有望用於下一代發光二極管。然而鈣鈦礦材料由於其結晶過程的不可控，容易產生缺陷，這往往會限制鈣鈦礦發光二極管（PeLED）的效率以及穩定性。

小分子鈍化劑已成功用於調控單一鹵素鈣鈦礦的成核、聚集以及組裝過程，獲得了高發光效率的微/納米晶薄膜，進而使得綠光和近紅外光PeLED的外量子效率超過20%。雖然小分子鈍化劑也被嘗試用於調控混合鹵素鈣鈦礦的結晶，但目前混合鹵素PeLED的效率以及穩定性依然很低，這其中的原因依然未知。

▲ 混合鹵素鈣鈦礦小分子調控的非經典結晶過程以及亞穩相結晶策略。

姚宏斌教授課題組基於前期鈣鈦礦結晶調控的相關研究基礎（J. Am. Chem. Soc. 2022, 144, 8162?8170；Adv. Optical Mater. 2021, 9, 2001684），首先揭示了在混合鹵素鈣鈦礦成核、團聚以及組裝過程中，不均勻的滷素離子分佈會導致晶片內部的面缺陷形成，進而提出了亞穩相結晶（MPC）製備混合鹵素鈣鈦礦薄膜的策略。

該策略可以有效促進鈣鈦礦晶格內部的滷素均勻混合，進而降低鈣鈦礦結晶過程中的晶格應力，消除鈣鈦礦晶片內部的面缺陷。

▲ 不同結晶過程製備的CsPbI3-xBrx薄膜晶片內部的RP型面缺陷表徵。（AC）沒有聚合物引發的相分離過程（NPS）（A）,一步法退火（OSC）（B）和亞穩相結晶（MPC）（C）薄膜的TEM圖。（DE） NPS （D）, OSC（E）和MPC（F）膜晶片內部的HAADF-STEM圖。內部插圖是相應的快速傅里葉變換圖。（GI）DF圖中相應的原子級分辨的HAADF-STEM放大圖。

基於球差電鏡分析（林岳教授合作），該工作首次觀察到未經過亞穩相結晶製備的CsPbI3-xBrx薄膜晶片內部存在著大量面缺陷，並且是沿著（100）和（010）方向廣泛存在於晶片內部並形成迷宮狀的限域納米區域（圖2D）。進一步球差電鏡分析表明在面缺陷邊緣鹵化銫層呈岩鹽石結構堆積，從而形成Ruddlesden-Popper（RP）型面缺陷（圖2G），這是由於CsPbI3-xBrx鈣鈦礦薄膜在結晶過程中鹵素離子不均勻分佈產生晶格應力從而導致的晶格錯位搭接。

同樣地，在沒有精細調控結晶過程的一步法退火（OSC）製備的鈣鈦礦膜內也存在RP型面缺陷（圖2E, H）。然而，對於經過亞穩相結晶調控的CsPbI3-xBrx薄膜，其內部不存在這種RP型面缺陷，因此亞穩相結晶過程可以有效促進體系中鹵素離子的均勻分佈，降低鈣鈦礦結晶過程中的晶格應力，從而避免了CsPbI3-xBrx薄膜在結晶過程中產生RP型面缺陷（圖2F, I）。

▲ Ruddlesden-Popper （RP）型面缺陷對於鈣鈦礦帶隙以及光電性質的影響。（A） 具有二維RP缺陷限域的NPS膜的晶格模型。（B,C） NPS （B）以及MPC （C）膜的態密度計算。（DF） NPS （D）, OSC （E）和MPC （F）薄膜的瞬態吸收等高線圖。（G） 穩態熒光光譜。（H,I）單電子（H）和單空穴（I）的電流電壓曲線。
 

第一性原理態密度分析（張國楨副研究員合作）表明相對於無RP型面缺陷的鈣鈦礦薄膜，晶格內部的RP型面缺陷會在鈣鈦礦價帶邊形成獨立的缺陷態（圖3A-C）。並且隨著晶片內部的一維RP缺陷變成二維RP缺陷，鈣鈦礦的帶隙會增大超過0.3 eV，這是由於RP型缺陷限域的區域小於CsPbI3-xBrx激子波爾半徑導致的。

瞬態吸收光譜測試（張群教授合作）表明NPS膜的基態漂白峰相對於OSC和MPC膜表現出超過30 nm的藍移和大的拓寬，這是由於在NPS和OSC膜內部存在著二維RP缺陷限域的複合帶隙（圖3D, E）。

做為對比，MPC膜表現出最窄的基態漂白峰，這是由於其晶片內無RP型缺陷限域的原因（圖3F）。由於在MPC膜內部無RP型面缺陷，所以MPC膜表現出較高熒光量子產率、高發光色純度以及低載流子缺陷態（圖3G-I）。

▲ 基於CsPbI3-xBrx薄膜的電致發光器件性能評估。

通過對比不同退火方式製備的CsPbI3-xBrx薄膜的PeLED器件性能，該工作發現RP型面缺陷會制約器件的效率、亮度以及穩定性。在消除CsPbI3-xBrx膜內部的RP缺陷之後，純紅光PeLED器件的最大外量子效率和亮度分別達到了17.8%和9000 cdm-2（圖4 AC）。同時RP型面缺陷的有效消除也提升了鹵素離子遷移的能壘，進而提升了器件的光譜穩定性（圖4D-E）。

中國科大化學與材料科學學院應用化學系博士生宋永慧與訪問學者葛晶講師為該論文的共同第一作者。該工作得到了國家自然科學基金、中國科學技術大學、合肥微尺度物質科學國家研究中心以及合肥同步輻射國家實驗室的支持。

（來源：中國科大）