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最近LED產業除了有大量的MOCVD新機台成軍外，業界關注的另一個焦點是也有LED廠商要打造三五族的太陽能電池，MOCVD的應用有哪些呢？我們來看看。
金屬有機化學氣相沉積系統（MOCVD)是利用金屬有機化合物作為源物質的一種化學氣相澱積（CVD)製程，其原理為利用有機金屬化學氣相沉積法metal-organic chemical vapor deposition.MOCVD是一種利用氣相反應物，或是前驅物precursor和Ⅲ族的有機金屬和V族的NH3，在基材substrate表面進行反應，傳到基材襯底表面固態沉積物的製程。
MOCVD主要功能在於沉積高介電常數薄膜，可隨著precursor的更換，而沉積出不同種類的薄膜。對於LED來說，LED晶片由不同半導體材料的多層次架構構成，這些材料放在一個裝入金屬有機化學氣相沉積系統的圓形晶片上。這個過程叫做晶體取向附生，對於決定LED的性能特徵並因此影響白光LED的裝倉至關重要。
MOCVD應用的範圍有：
1、 鈣鈦礦氧化物如PZT、SBT、CeMnO2等；
2、 鐵電薄膜；
3、 ZnO透明導電薄膜、用於藍光LED的n-ZnO和p-ZnO、用於TFT的ZnO、ZnO納米線；
4、 表面聲波器件SAW(如LiNbO3等、；
5、 三五族化合物如GaN、GaAs基發光二極體（LED）、雷射器（LD）和探測器；
6、 MEMS薄膜；
7、 太陽能電池薄膜；
8、 銻化物薄膜；
9、 YBCO 高溫超導帶；
10、 用於探測器的SiC、Si3N4等寬頻隙光電器件
MOCVD對鍍膜成分、晶相等品質容易控制，可在形狀複雜的基材、襯底、上形成均勻鍍膜，結構密緻，附著力良好之優點，因此MOCVD已經成為工業界主要的鍍膜技術。MOCVD制程依用途不同，制程設備也有相異的構造和型態。MOCVD近來也有觸媒製備及改質和其他方面的應用，如製造超細晶體和控制觸媒得有效深度等。在可預見的未來裏，MOCVD製程的應用與前景是十分光明的。
