ULVAC展示LED與LD用量產專用乾式蝕刻(Dry Etching)設備

來源: 
http://www.ulvac.co.jp/information/news/2007/20071129.html
ULVAC在SEMICON Japan 2007展覽中展示量產LED與LD的 乾式蝕刻設備「APIOS NE-950」,此設備較先前枚葉式蝕刻設備「NE-5700」生產效率提升。新設備可以在300 mm的托盤放入5片4吋基板,相當於擴大LED基板的尺寸,每10分鐘可生產27.5片,生產效率較先前的「NE-5700」設備提升5倍。並且由於光學效率的提升,可以滿足使用者在藍寶石基板上的不同需求。
RSS RSS     print 列印     mail 分享     announcements 線上投稿        
【免責聲明】
1、「LEDinside」包含的內容和資訊是根據公開資料分析和演釋,該公開資料,屬可靠之來源搜集,但這些分析和資訊並未經獨立核實。本網站有權但無此義務,改善或更正在本網站的任何部分之錯誤或疏失。
2、任何在「LEDinside」上出現的資訊(包括但不限於公司資料、資訊、研究報告、產品價格等),力求但不保證資料的準確性,均只作為參考,您須對您自主決定的行為負責。如有錯漏,請以各公司官方網站公佈為準。
【版權聲明】
「LEDinside」所刊原創內容之著作權屬於「LEDinside」網站所有,未經本站之同意或授權,任何人不得以任何形式重制、轉載、散佈、引用、變更、播送或出版該內容之全部或局部,亦不得有其他任何違反本站著作權之行為。