ULVAC展示LED與LD用量產專用乾式蝕刻(Dry Etching)設備
2007-12-07 14:05 [編輯：ivan]
來源：
http://www.ulvac.co.jp/information/news/2007/20071129.html
ULVAC在SEMICON Japan 2007展覽中展示量產LED與LD的 乾式蝕刻設備「APIOS NE-950」，此設備較先前枚葉式蝕刻設備「NE-5700」生產效率提升。新設備可以在300 mm的托盤放入5片4吋基板，相當於擴大LED基板的尺寸，每10分鐘可生產27.5片，生產效率較先前的「NE-5700」設備提升5倍。並且由於光學效率的提升，可以滿足使用者在藍寶石基板上的不同需求。
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