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Veeco公司（www.veeco.com）日前宣布南通同方半導體有限公司用於硅基氮化鎵高亮度二級發光管研究的TurboDisc K465i MOCVD設備已經交付使用。
南通同方已採用Veeco的設備成功生產基於藍寶石襯底的氮化鎵LED，硅基氮化鎵LED將成為其未來幾年投資重點，並將繼續採用Veeco設備。
Veeco高級副總裁Jeff Hawthorne表示，很多客戶均在發展硅基氮化鎵技術，在不影響最終產品性能的前提下降低LED製造成本，加快固態照明的普及。
K465i的特點是薄膜品質高、瑕疵率低，這是硅基氮化鎵加工藝的關鍵。它還集成了Veeco的Uniform FlowFlang技術，具有出色的均勻性和優異的重複性。採用TurboDisc技術的設備維修需求低，從而提供最長的連續生產時間、極低微粒子產生的優越性能以及高產量。經過的生設產備驗維證修的需K465i提供了易於調試的快速優化工藝，支持最大8英寸的晶圓。
